Obiettivo FUJIFILM XF 56mm f/1.2 R WR

Ideale per i ritratti, la FUJIFILM XF 56mm f/1.2 R WR è una versione resistente alle intemperie del loro acclamato obiettivo equivalente a 85mm. Famoso per la sua apertura massima estremamente veloce f/1.2, l'ottimo isolamento del soggetto e la piacevole resa cromatica, questa revisione aggiorna la formula ottica aggiungendo elementi asferici al gruppo di messa a fuoco, una distanza di messa a fuoco notevolmente migliorata di 1.6' e un diaframma arrotondato a 11 lamelle per un bokeh migliore.

Il design ottico impiega sia elementi asferici che a bassissima dispersione, che aiutano a ridurre varie aberrazioni, frange di colore e distorsioni per ottenere elevata nitidezza e chiarezza. Viene utilizzato anche un rivestimento Super EBC per ridurre bagliori e fantasmi, migliorando contrasto e precisione cromatica in condizioni di luce intensa e controluce. Un diaframma arrotondato a undici lamelle offre sfocati morbidi e piacevoli. Questo obiettivo interamente in metallo utilizza nove guarnizioni in gomma per proteggerlo da polvere e umidità, mantenendo piena funzionalità a temperature fino a 14°F. L'elemento frontale con rivestimento al fluoro, nel frattempo, è progettato per respingere acqua, impronte e altre macchie, aiutando a mantenere alta la qualità dell'immagine quando il tempo volge al peggio.

• Obiettivo primario di lunghezza focale da ritratto progettato per fotocamere mirrorless Fujifilm X-mount con sensore APS-C e fornisce una lunghezza focale equivalente a 85mm.
• Produce risultati ad alta risoluzione, privi di aberrazioni e ricchi di dettaglio e colore. Ideale per ritratti, matrimoni e qualsiasi altra applicazione creativa che richieda un controllo preciso della profondità di campo, la XF 56mm f/1.2 R WR offre incredibili prestazioni di risoluzione dell'immagine fino alla sua distanza minima di messa a fuoco di 1.6', rendendolo un obiettivo ideale per ritratti, ma anche adatto ad altre applicazioni nella fotografia da tavolo, di prodotto e commerciale.
• La sua costruzione ottica comprende 13 elementi in otto gruppi, inclusi un elemento ED e due asferici. Gli otto elementi utilizzati nel gruppo di messa a fuoco adottano la tecnologia ad alto indice di rifrazione degli obiettivi FUJINON Cinema per ridurre al minimo le aberrazioni cromatiche, sferiche e comatiche. Questo aiuta a minimizzare la dispersione di luce nelle alte luci, migliorando la qualità dell'immagine e il dettaglio del soggetto.
• L'apertura massima particolarmente luminosa f/1.2 eccelle in condizioni di scarsa illuminazione e offre un notevole controllo sulla profondità di campo per l'uso di tecniche di messa a fuoco selettiva.
• Il rivestimento Super EBC è stato applicato ai singoli elementi per ridurre bagliori e fantasmi dell'obiettivo, migliorando contrasto e fedeltà cromatica in condizioni di illuminazione intensa.
• Il diaframma arrotondato a undici lamelle contribuisce a una piacevole qualità dello sfocato, a beneficio dell'uso di messa a fuoco selettiva e tecniche di profondità di campo ridotta.